[ad_1]
نوشته و ویرایش شده توسط مجله ی کویر دانش
وقتیکه هواوی و SMIC پتنت الگوسازی چهارگانه (SAQP) را برای تشکیل ریزتراشههای پیشرفته ثبت کردند، فکر میشد مقصدشان ساخت تراشههای پنج نانومتری باشد؛ اما انگارً چین میخواهد از الگوی چهارگانه و ابزارهای قدیمی DUV برای گسترشی تراشههای گسترش یافتهی سه نانومتری منفعت گیری کند.
SiCarrier، گسترشدهندهی تجهیزات تشکیل تراشه و همکار تجاری هواوی، با ثبت پتنت چندالگویی، منفعت گیری از این فناوری توسط SMIC برای تشکیل لیتوگرافیهای آینده را قبول کرد.
هواوی و SMIC تصمیم دارند با SAQP و ابزارهای DUV به فناوری سه نانومتری برسند. اهمیت SAQP برای هواوی و SMIC دسترسی به ابزارهای پیشرفته همانند Twinscan NXT:2100i ASML و Twinscan NXE:3400C/3600D/3800E است.
با وجود مزایای بالقوهی SAQP، منفعت گیری از آن چالشبرانگیز است. نسل اول فناوری پردازش ۱۰ نانومتری اینتل به علت این که Canon Lake تنها دو هستهی CPU داشت و گرافیک یکپارچه غیرفعال می بود، ناکامی خورد. با این حال برای SMIC، فناوری SAQP در جهت پیشرفت در فناوری نیمههای الزامی است و امکان تشکیل تراشههای پیچیدهتری را فراهم میکند.
هزینهی تشکیل تراشههای پنج یا سه نانومتری با منفعت گیری از فناوری SAQP قطعاً بالاتر از حالت عادی خواهد می بود، اما این فناوری برای پیشرفت چین در صنعت نیمههادی حیاتی است.
دسته بندی مطالب
[ad_2]